CNIPA.AI
검색으로 돌아가기
기록

一种KDP晶体表面减反射纳米结构阵列的压印方法

발명유효
5청구항 · 1 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

闫永达; 娄在祯; 耿延泉; 王继强; 贾博森

IPC 분류

G03F 7/00 (2006.01)G02B 1/11 (2015.01)H01S 3/00 (2006.01)B82Y 40/00 (2011.01)B82Y 20/00 (2011.01)

一种KDP晶体表面减反射纳米结构阵列的压印方法,属于超精密加工技术领域。方法如下:将KDP晶体固定于样品夹具上;完成压头与KDP晶体的调平;设定加工参数;启动微力加工模块,在KDP晶体表面加工出深度一致的纳米结构阵列;对加工后的KDP晶体表面进行检测;若满足反射率且透过率>99%,则结束,否则优化加工参数直至满足。本发明降低KDP晶体表面纳米结构制备的复杂度,有效解决软脆晶体易损伤问题,实现大面积纳米结构阵列的高效、低损伤制备,解决传统增透膜带宽有限及易老化问题,满足高功率激光系统对光学元件的大面积、低损伤、高一致性的工程化需求。