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一种纳米压印模具及其制备方法

发明专利有效
10权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

陈志昇; 萧志伟; 苏田田; 蔡仁麒; 何非

IPC 分类

G03F 7/00 (2006.01)

一种纳米压印模具及其制备方法,涉及纳米压印技术领域。该纳米压印模具的制备方法,包括:提供基板;在基板的表面通过第一次图形化刻蚀形成压印图案;对压印图案进行掩蔽,并对压印图案周围暴露的基板区域进行第二次图形化刻蚀以形成隔离槽,以使压印图案所在的区域相对隔离槽凸起,形成压印凸台。上述纳米压印模具的制备方法能够在模具表面制备凸台结构,有效避免在压印过程中交替接触图案母版以外的区域,提高了压印进度,适于高精度的重复步进式压印工艺。