一种光刻胶组合物和光刻图案化多层体及其制备方法

本申请提供一种光刻胶组合物和光刻图案化多层体及其制备方法，涉及光刻胶领域。光刻胶组合物的原料按重量份计，包括：碱溶性树脂100份、鎓盐化合物0.5‑20份、甘脲化合物3‑50份、碱性化合物0.01‑1.0份、酸性化合物0.01‑1.0份、有机溶剂100‑5000份；鎓盐化合物中的阴离子至少部分为氟烷基磺酸根阴离子；甘脲化合物中的N至少被一个羟烷基、烷氧基和烷基取代。甘脲化合物的交联活性通常较低，而低交联活性的甘脲化合物在与作为酸生成剂的鎓盐化合物组合使用时，可有效改善光刻胶在抗反射层上形成图案时产生的拖尾缺陷，并可以得到较高的分辨率。