涂胶显影的控制方法、设备、介质和程序

本发明涉及涂胶显影技术领域，提供一种涂胶显影的控制方法、设备、介质和程序，该方法包括：控制第一机械手在第一工艺单元中执行至少一种液处理工艺；将完成液处理工艺的晶圆通过第二机械手传送至第二工艺模块，在第二工艺单元中执行至少一种热处理工艺；控制层间机械手将其从第二工艺模块转移至第一工艺模块，控制第一工艺单元中的背洗单元对晶圆执行背洗工艺；将背洗后的晶圆经层间模块暂存后，传送至接口模块；控制接口机械手将晶圆送入光刻机；控制接口机械手将晶圆送入接口模块中的正洗单元执行正洗工艺。本发明用于实现背洗前置、正洗后置的非对称清洗的涂胶显影流程，并通过多模块独立机械手协同提升系统吞吐率。