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案件記録

一种曝光设备及曝光工艺

発明有効
10請求項 · 2 独立
§ Ⅰ

案件概要

発明者

余彬彬; 蒋锋; 吴令一; 王龙海; 梁民征; 韦积盛

IPC分類

G03F 7/20 (2006.01)

本发明公开了一种曝光设备及曝光工艺,需要进行曝光时,可以利用X轴移动模组、Y轴移动模组以及曝光模组一起联动对基材进行坐标确认定位,控制模组可以向数字微镜器件发送与所需电路图形对应的数字信号,数字微镜器件根据该数字信号控制内部的微镜快速翻转,在紫外光源的照射下,形成与该数字信号对应的动态光场图形,并将该动态光场图形通过投影镜头投影至基材表面。本曝光设备无需依赖物理掩模版,可以从根本上解决传统曝光工艺中掩模版制作成本较高、图形切换慢的痛点,能够适应小批量、多品种订单的快速生产需求,同时,可以在单次曝光中处理大面积图形,相较于小型激光的扫描方式,可以极大程度地提升曝光效率和精度。

外部リソース