一种曝光方法

本发明公开了一种曝光方法，包括：将光刻板定位于载台上，载台装配至定位座上、并校平，实现对光刻板的校平；微调平台带动载片弹性调节、固定装置在XYZ方向调整，与平面校准机构接触和球面配合结构，完成校平标准晶圆、且与光刻板平行；取走标准晶圆，将晶圆送至寻边器调整后再送至载片弹性调节、固定装置上，执行上述步骤，使晶圆与光刻板平行；多方位调节机构带动视觉检测相机对光刻板与晶圆完成对正检测后进行曝光工作，移走曝光的晶圆、移送下一个待曝光晶圆，如此循环往复。实现了对光刻板和承载光刻板载台的定位、便于取放，且能保证光刻板与晶圆平行精度，保证了曝光质量；简化了取放结构、光源使用通用性强，有利于曝光设备的小型化设计。