一种基板双面图形对准曝光方法

本发明提供一种基板双面图形对准曝光方法，方法包括：选取基板正面边缘轮廓上的至少三个顶点为第一组对位点，图像获取装置逆光获取第一组对位点图像；依据第一组对位点图像信息将第一初始图形调整为第一修正图形，依据第一修正图形对基板正面曝光；选取基板背面边缘轮廓上的至少三个顶点为第二组对位点，图像获取装置逆光获取第二组对位点图像；依据第二组对位点图像信息将第二初始图形调整为第二修正图形，依据第二修正图形对基板背面曝光。本发明通过第一组对位点和第二组对位点建立起关联的对位标记，不需要制作激光靶标，解决没有板边预留区域，或者感光材料不显色情况下，基板两面图形需要对准的问题。