一种用于半导体工艺气路的监测控制方法及系统

本发明公开了一种用于半导体工艺气路的监测控制方法及系统，涉及半导体气体浓度检测领域，包括以下步骤：将一测量仪器设置于气体混合器下游且工艺腔室上游；对流道气体进行顺流与逆流时间检测，并对声速和流量补偿，然后浓度反演以获得混合气体的实际浓度值与总流量；将实际浓度值与预设目标浓度进行比对，得到浓度偏差，根据浓度偏差调节工艺气路上游的至少一个支路的流量控制阀的开度；将总流量与上游所有支路的流量设定值之和进行实时比对，当偏差超出预设误差时，触发安全联锁。采用上述方案，在不接触工艺气体的前提下，实现对混合后工艺气体的浓度与总流量的测量，以及进入工艺腔室气体的闭环控制与冗余安全校验。