一种掩膜缺陷检测的方法、装置、设备及存储介质

本发明涉及集成电路生产领域，特别是涉及一种掩膜缺陷检测的方法、装置、设备及存储介质，通过接收待检掩膜的光学检测图像；在预设的理想成像条件下对所述待检掩膜进行光学模拟，得到光学仿真图像；确定所述光学仿真图像对比所述光学检测图像的超标像素点；得到所述光学仿真图像的超标像素占比；判断所述超标像素占比是否超过预设的条件切换阈值；在预设的误差成像条件下重新对所述待检掩膜进行光学模拟，得到对应的误差仿真图像，并计算所述误差仿真图像对比所述光学检测图像的超标像素点；根据所述误差仿真图像的超标像素点，确定所述待检掩膜的缺陷位置。本发明排除了检测系统硬件的干扰，提升信噪比，提升了检测精确度与检测系统的鲁棒性。