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共振隧穿二极管及其制备方法

발명유효
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§ Ⅰ

개요

발명자

庞秋瑶; 吴东海; 苏向斌; 徐应强; 倪海桥; 牛智川

IPC 분류

H10D 8/75 (2025.01)H10D 8/01 (2025.01)H10D 62/824 (2025.01)H10D 62/10 (2025.01)

本公开提供了一种共振隧穿二极管,可应用于半导体技术领域。该共振隧穿二极管包括:衬底;缓冲层,位于衬底上;第一台面结构,位于缓冲层远离衬底的一侧;以及第二台面结构,位于缓冲层远离衬底的一侧,其中,衬底的材料包括砷化镓;第二台面结构的材料包括砷化铟和锑化铝;以及第一台面结构与第二台面结构间隔设置。通过该结构设置器件的峰谷电流比得到提高,器件的耗尽区时间延迟有效缩短。本公开的实施例还提供了一种共振隧穿二极管的制备方法。