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기록
半导体装置
발명유효
20청구항 · 3 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
卢昶佑; 朴范璡; 郑承根; 高荣健; 金洞院
IPC 분류
H10D 84/83 (2025.01)H10D 62/17 (2025.01)H10D 62/13 (2025.01)H10D 62/10 (2025.01)H10W 70/65 (2026.01)
一种半导体装置包括:基底绝缘层;栅极结构,在基底绝缘层上在第一方向上延伸;多个沟道层,在第二方向上彼此间隔开,第二方向与基底绝缘层的上表面垂直,所述多个沟道层在基底绝缘层上并且被栅极结构围绕;第一源极/漏极区域和第二源极/漏极区域,在栅极结构的两侧上并且连接到所述多个沟道层;第一间隔件层和第二间隔件层,第一间隔件层在第一源极/漏极区域下方,第二间隔件层在第二源极/漏极区域下方;以及背侧接触插塞,穿过基底绝缘层和第一间隔件层使第一源极/漏极区域的下表面部分地凹陷。