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기록
一种薄膜电子器件的生产控制方法及系统
발명유효
10청구항 · 2 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
刘康仲; 王世育; 吕勇; 崔草香; 张春扬; 郭柏君; 张富轩
IPC 분류
H10H 29/01 (2025.01)H10H 29/24 (2026.01)H10P 70/00 (2026.01)H10P 74/20 (2026.01)
本发明涉及薄膜电子器件的生产技术领域,且公开了一种薄膜电子器件的生产控制方法及系统,通过等离子体增强化学气相沉积工艺和分层沉积电极材料,并通过光刻工艺形成电路图案;等离子体增强化学气相沉积通过射频电场激发反应气体产生等离子体,降低沉积温度,适配透明薄膜衬底的耐热性;分层沉积可实现不同功能电极的协同作用,光刻工艺通过光致抗蚀剂的选择性曝光与显影,精准定义电路图案的线宽与连接关系。该薄膜电子器件的生产控制方法及系统,功能层制备中阻隔层、防护层和功能性涂层的协同设置,能增强器件对外部环境的抵抗能力,各模块内的专用单元与方法步骤适配,进而整体提高薄膜电子器件的生产质量和性能稳定性。