纳米级条纹阵列图案化的层叠体及其制备方法、二维材料的图案化方法和基底的图案化方法

本发明涉及一种纳米级条纹阵列图案化的层叠体及其制备方法、二维材料的图案化方法和基底的图案化方法。本发明的纳米级条纹阵列图案化的层叠体的制备方法包括：(A1)在二维材料层的表面上以与该表面接触的方式通过涂覆墨水形成嵌段共聚物层，所述墨水为包含嵌段共聚物的溶液，(A2)使所述嵌段共聚物的至少一种嵌段以形成纳米级条纹阵列的方式进行相分离，(A3)选择性地刻蚀所述嵌段共聚物的任一嵌段相，使所述嵌段共聚物层在所述二维材料层上的所选区域中存在且在所述二维材料层上的其它区域中不存在，并且在所述二维材料层上存在的嵌段共聚物层形成纳米级条纹阵列图案。