一种实现蓝膜上半导体器件表面脏污清洗方法

本发明提供了一种实现蓝膜上半导体器件表面脏污清洗方法，涉及半导体器件清洗技术领域，包括：步骤S1：配置清洗药水；步骤S2：采用毛刷蘸取清洗药水后对半导体器件刷洗；步骤S3：使用纯水冲洗半导体器件表面残留的药水；步骤S4：使用氮气枪对半导体器件吹干；步骤S5：步骤S4完成后半导体器件有脏污继续清洗，半导体器件外观干净则清洗完毕。本发明既能解决芯片表面脏污问题，还不会造成蓝膜发生质变。清洗效率高，对器件表面基本无损伤。