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기록
层叠膜的制造方法
발명유효
7청구항 · 1 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
中岛一裕; 宫本幸大; 长命翔太; 高桥将人; 待永广宣; 山下纱也加
IPC 분류
B32B 9/00 (2006.01)B32B 15/08 (2006.01)C23C 14/02 (2006.01)C23C 16/02 (2006.01)G02B 1/11 (2006.01)G02B 1/16 (2006.01)
本发明的层叠膜的制造方法包括：等离子体处理工序（S2），在腔室内的减压气氛下，对基材膜（10）的第一面（10a）进行等离子体处理；以及成膜工序（S3），在等离子体处理工序（S2）之后，在减压气氛下、在第一面（10a）上形成无机物层（20）。等离子体处理是利用通过对低电感天线施加高频电力而产生的、含氩气体的电感耦合等离子体进行的处理。在等离子体处理工序（S2）中，将等离子体发光中的波长300～900nm的范围内的最大发光峰的强度Imax的波长设为811～812nm内，将波长603～604nm内的发光峰的强度I相对于波长706～707nm内的发光峰的强度I的比率设为0.50以下。