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기록
氮化硅基板及氮化硅基板的制造方法
발명유효
8청구항 · 2 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
金原惠太
IPC 분류
C04B 35/587 (2006.01)B28B 3/12 (2006.01)B32B 18/00 (2006.01)H05K 1/03 (2006.01)
本发明涉及良好地层叠生片而制造的氮化硅基板及氮化硅基板的制造方法。实施方式的氮化硅基板在光学显微镜的暗视野中观察截面的情况下包括主层和比主层暗的中间层。主层与中间层之间的色差为0.1以上。在厚度方向上m+1个主层和m个中间层交替排列。将从一个面起的第n个(n为整数)主层与第n个中间层之间的色差设为CDna。将第n+1个主层与第n个中间层之间的色差设为CDnb。在该情况下,在n为1以上且m以下的任意值时都满足第一条件及第二条件。第一条件为,在与截面平行且与厚度方向垂直的第一方向上,0.1≤CDna≤1.4的区域相连地存在100μm以上。第二条件为在第一方向上0.1≤CDnb≤1.4的区域相连地存在100μm以上。