新型化合物、包含其的前体组合物和利用其的薄膜的制造方法

本发明涉及能够通过气相蒸镀来进行薄膜蒸镀的气相蒸镀化合物，具体地，涉及能够适用于原子层蒸镀法(Atomic Layer Deposition，ALD)或化学气相蒸镀法(Chemical Vapor Deposition，CVD)且反应性、挥发性和热稳定性优异的新型化合物、包含上述新型化合物的前体组合物、利用上述前体组合物的薄膜的制造方法。