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案件記録
使用通过DC磁场调制的等离子体加工衬底
発明有効
20請求項 · 3 独立
§ Ⅰ
案件概要
発明者
陈亚明; 希亚姆·斯里达尔; 彼得·文特泽克; 大秦充敬
IPC分類
H01J 37/32 (2006.01)
一种用于对衬底进行等离子体加工的方法,其中,该方法包括在等离子体室中生成等离子体,该衬底在加工期间固持在该等离子体室内,其中,生成该等离子体包括:使放电气体流过该等离子体室;将射频(RF)源信号耦合到第一RF电极,其中,该耦合使该放电气体离子化;以及将偏置信号耦合到第二RF电极,该偏置信号是一系列周期性偏置脉冲,每个周期具有偏置接通时间和偏置关断时间,其中,在该偏置接通时间期间施加偏置电压波形;通过将磁化信号耦合到电磁体来在该等离子体室中产生脉冲DC磁场,该磁化信号是一系列周期性电流脉冲;以及在耦合该磁化信号之前,使该系列周期性电流脉冲与该偏置信号同步以使DC磁化电流在该偏置接通时间期间流动。
外部リソース