一种以高纯含硅化合物制备高致密二氧化硅的方法

本发明提供一种以含硅化合物制备二氧化硅的方法，通过对水解反应参数和烧结参数的优化，提高了产物二氧化硅的体积密度，可以制备出高致密的二氧化硅，其中制备出的致密性最好的二氧化硅的体积密度可以达到1.591g/cm；本发明制备方法的原料仅使用含硅化合物和超纯水，不引入其他杂质，可以制备出适用于半导体制备领域的高纯石英砂，并且生产工艺简单、设备简易，易于SiO的工业化生产。