锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法

本发明涉及锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优良，为高感度、高对比度，且LWR、CDU、EL、DOF等光刻性能优良，而且即使在微细图案形成时，图案崩塌耐性强，蚀刻耐性亦优良的化学增幅抗蚀剂组成物所使用的锍盐型单体、含有来自该锍盐型单体的重复单元的聚合物、含有该聚合物的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种锍盐型单体，其以下式(a)表示。式中，Z为具有芳香族乙烯基结构及碘原子的羧酸阴离子。