锍盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法

本发明涉及锍盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供：在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度，又高对比度，且LWR、CDU、MEF、EL、DOF等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的锍盐；包含该锍盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物；以及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明的解决手段为下式(1)表示的锍盐。式中，Z为不具有聚合性基团的氟烷磺酸阴离子。