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一种2'-修饰胞苷单体的制备方法

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§ Ⅰ

개요

발명자

黄鑫; 刘云; 叶静斯; 金国庆; 朱根华

출원일

Jun 9, 2026

공개일

Oct 16, 2026

IPC 분류

C07H 19/067 (2006.01)C07H 1/00 (2006.01)

本发明公开了一种2';‑修饰胞苷单体的制备方法,属于医药中间体合成技术领域。该方法以5‑甲基胞苷为起始原料,依次经亲核取代反应引入2';‑O‑乙酸甲酯基团,再与甲胺水溶液反应生成2';‑ONMA修饰的化合物III,经苯甲酰化保护胞苷氨基,随后用DMTrCl选择性保护5';‑羟基,最后与亚磷酰胺试剂反应得到目标单体化合物VI。本发明合成路线设计合理,反应条件温和,避免了传统尿苷转胞苷路线所需的高温开环及酸性脱保护条件,降低了副反应风险,提高了原子经济性和产物纯度。同时,操作简便,易于放大生产,适用于寡核苷酸药物研发中2';‑ONMA修饰胞苷单体的规模化制备。