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一种用于透明围护结构的透明辐射冷却复合层及其制备方法与应用
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§ Ⅰ
개요
IPC 분류
C09D 183/07 (2006.01)C09D 183/05 (2006.01)C09D 7/62 (2018.01)E04C 2/54 (2006.01)E04D 3/06 (2006.01)
本发明涉及高分子材料技术领域,公开了一种用于透明围护结构的透明辐射冷却复合层及其制备方法与应用,上述用于透明围护结构的透明辐射冷却复合层,包括:加成固化聚二甲基硅氧烷连续相,以及分散于所述连续相中的化学耦合型核壳SiO微粒,所述加成固化聚二甲基硅氧烷连续相包含端乙烯基聚二甲基硅氧烷与含氢聚硅氧烷交联剂发生硅氢加成反应形成的交联网络。本发明的用于透明围护结构的透明辐射冷却复合层,将SiO与聚二甲基硅氧烷基体之间的界面从物理固定转变为化学耦合,从而解决透明围护结构辐射冷却复合层在长期室外服役中透明性与辐射冷却功能无法协同保持的问题。