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一种真空镀膜用蒸发坩埚
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§ Ⅰ
개요
IPC 분류
C23C 14/24 (2006.01)C23C 14/54 (2006.01)
本发明涉及真空镀膜技术领域,具体为一种真空镀膜用蒸发坩埚。包括支架,还包括滑架,滑动连接在支架上,滑架的尾部固定安装有激振器,滑架与支架之间安装有两个复位弹簧,滑架上通过轴承转动安装有外筒,外筒的内壁固定安装有加热线圈,内胆,可轴向移动地设置于外筒的内侧,内胆的后端开口、前端安装有喂料装置,内胆的内部设置有蒸发腔,旋转集气座,通过轴承转动安装在外筒的轴线位置,旋转集气座的外周安装有两个导气管,两个所述导气管的端部均转动连通有蒸汽吸入管,蒸汽吸入管的外周安装有吸气孔组。本发明的有益效果是:通过外筒、内胆与激振器的协同配合,使热场分布具备主动调节能力。