一种金刚石表面Al膜的制备方法和应用

本发明属于表面改性技术领域，特别涉及一种金刚石表面Al膜的制备方法和应用。本发明金刚石表面Al膜的制备方法，包括以下步骤：采用高功率脉冲磁控溅射依次在金刚石基体表面沉积Ti层、Cr层和Al膜。本发明利用HiPIMS高离化率沉积方式，在金刚石表面构建“超薄Ti层‑超薄Cr层‑厚Al覆膜”的梯度界面结构。Ti层增强金刚石基体与金属膜层的初期结合；Cr层优化界面过渡并改善Al膜生长条件；Al覆膜在连续致密过渡层基础上形成平整光滑的功能膜。HiPIMS高离化率沉积与Ti/Cr/Al梯度结构的协同作用，可获得高附着力、低界面热阻且表面光滑的Al膜。