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一种氧化钇涂层退镀液和氧化钇涂层的退镀方法

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§ Ⅰ

개요

발명자

刘畅; 罗修恩; 陈仕超; 杨佐东

출원일

Sep 3, 2026

공개일

Oct 16, 2026

IPC 분류

C23F 1/16 (2006.01)

本发明提供一种氧化钇涂层退镀液和氧化钇涂层的退镀方法,属于涂层退镀领域。具体而言,本发明提供的氧化钇涂层退镀液由1质量份的硝酸、2~5质量份的醋酸、320~400质量份的水组成。本发明提供的退镀液和退镀方法通过多元协同,在高效剥离氧化钇涂层的同时,不会对陶瓷基底造成损伤,可有效提高半导体设备部件的使用寿命,降低晶圆生产成本并提高晶圆良品率,可有效促进高制程半导体设备的发展。