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기록
基于半导体检测设备的对焦方法、系统及程序产品
발명알 수 없음
10청구항 · 3 독립항
§ Ⅰ
개요
IPC 분류
G01N 21/01 (2006.01)H10P 74/20 (2026.01)G01N 21/95 (2006.01)
本申请公开了一种基于半导体检测设备的对焦方法、系统及程序产品,涉及半导体技术领域。该方法包括:对获取到的参考帧和待检测帧分别进行行积分处理,得到参考积分曲线和待检测积分曲线;对参考积分曲线和待检测积分曲线进行互功率谱运算,得到第一互功率谱运算结果,基于第一互功率谱运算结果确定第一相对位移;基于参考帧对应的多个参考对称轴位置进行二次曲线拟合,得到多个二次曲线对称轴位置,基于参考对称轴位置和二次曲线对称轴位置确定第二相对位移;基于第一相对位移和第二相对位移计算得到目标位移量,并按照目标位移量生成电机控制信号,以驱动半导体检测设备中的电机控制物体对焦。根据本申请实施例,能够更为精准、高效实现对焦。