防护膜与防护件、及该防护膜与防护件的制造方法

本发明提供一种防护膜，该防护膜即使在例如单色曝光光源下的光刻工序中，也可抑制伴随局部表面突起而产生的膜厚不均，从而能够较以往更均匀地使曝光光透过，该防护膜的特征在于，在所述防护膜的表面，满足条件(A)~(B)[条件(A)外接圆直径为5mm以上，条件(B)高度为2.5μm以上]中任一项以上的条件且由与所述防护膜相同的组合物形成的突起的个数为5个/m以下。