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一种真空腔体的温控系统
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§ Ⅰ
개요
IPC 분류
G05D 23/20 (2006.01)
本发明涉及真空环境温度控制技术领域,目的是提供一种真空腔体的温控系统,该温控系统包括腔体温度感知模块、腔体加热模块、腔体冷却模块、温度调节模块以及中央控制模块,中央控制模块分别与温度感知模块、加热模块、冷却模块及温度调节模块连接,温度感知模块用于采集真空腔体壁面及腔体内部空间的温度分布数据;加热模块用于对真空腔体的外壁面施加可控热能输入;冷却模块用于对真空腔体的外壁面施加可控冷量输入;温度调节模块用于对真空腔体内部分区进行温度均衡调节。本发明通过多温区独立调控与热场均匀化设计,有效解决现有技术中真空腔体温控精度低、响应滞后大、温度分布不均的技术问题,实现了高精度、高响应速度的全温区温度控制。