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一种高速高功率片上光源及其制备方法
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§ Ⅰ
개요
IPC 분류
H01S 5/028 (2006.01)H01S 5/024 (2006.01)
本发明涉及半导体器件技术领域,特别是涉及一种高速高功率片上光源及其制备方法。所述高速高功率片上光源包括激光器芯片和SOI基底;激光器芯片包括激光器区,激光器区包括自下而上依次层叠的衬底、n型包层、有源区、超薄InP层、p型重掺杂石墨烯层和光限制层;SOI基底包括自下而上依次层叠的本征石墨烯层和钝化层,衬底与钝化层键合连接;其中,p型重掺杂石墨烯层提供空穴,利用石墨烯材料的高迁移率,提高空穴迁移速率,并与n型包层提供的电子在所述有源区复合而发光;同时利用石墨烯材料的高导热率,将复合发光产生的热量通过本征石墨烯层快速导出。本发明可以通过提高空穴注入效率和衬底散热效率,来实现激光器出光功率和调制带宽的提升。