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一种激光器外延结构及其制备方法

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§ Ⅰ

개요

발명자

杨兰; 周志学; 刘双韬; 张振峰; 印新达

출원일

Jul 17, 2026

공개일

Oct 16, 2026

IPC 분류

H01S 5/343 (2006.01)H01S 5/34 (2006.01)H01S 5/00 (2006.01)H01S 5/042 (2006.01)

本发明涉及一种激光器外延结构,包括衬底以及在衬底上依次生长的n‑GaN过渡层、n‑AlGaN下限制层、超晶格结构下波导层、下应力释放层、InGaN/GaN量子阱有源区、上应力释放层、超晶格结构上波导层、p‑AlGaN电子阻挡层、p‑AlGaN上限制层和p‑GaN接触层。本发明采用超晶格结构的波导层,超晶格波导可大幅抑制纵向光泄漏,压制高阶模起振,提升输出光斑质量与模式稳定性;通过在下波导层与量子阱之间、量子阱与上波导层之间设置应力释放层,能实现有源区压应力的可靠释放,同时配合超晶格波导层自身的微观应变补偿效应,可大幅降低量子阱区的晶格失配应力,有效削弱量子限制斯塔克效应,平整量子阱能带,提升载流子辐射复合效率,平缓整体外延应力状态,降低外延片翘曲。