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含阻变存储器的半导体结构及其制备方法

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§ Ⅰ

개요

발명자

姚邵康; 王奇伟; 陈昊瑜

출원일

Apr 8, 2025

공개일

Oct 16, 2026

IPC 분류

H10N 70/00 (2023.01)H10N 70/20 (2023.01)H10B 63/00 (2023.01)

本发明提供一种含阻变存储器的半导体结构及其制备方法,将阻变存储器的制备集成于前段工艺,且只需要增加1层光罩以进行阻变存储器的下电极的制备,且在前段工艺制备高阻层的同时制备阻变存储器的上电极,从而可大幅降低阻变存储器的制作成本,且可进一步的降低器件的厚度,缩小器件尺寸。