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衬底处理装置
발명알 수 없음
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§ Ⅰ
개요
발명자
石井弘晃; 安武阳介; 石川道明; 奥村慎一郎; 石井淳一; 船桥和雅; 阿部寿洋
출원일
Apr 2, 2026
공개일
Oct 16, 2026
IPC 분류
H10P 72/00 (2026.01)H10P 70/00 (2026.01)H10P 72/30 (2026.01)B08B 13/00 (2006.01)B08B 11/00 (2006.01)
衬底处理装置具备衬底收容部、清洗治具收容部、搬送机构(IR、CR)、具备以电动机驱动升降的提升销(L)的衬底载置部(PASS1)、处理单元、及控制部。控制部在提升销(L)从第1高度位置(H1)下降到第2高度位置(H2)时(步骤S14)，阶段性将提升销(L)的下降速度控制得较慢。