一种半导体器件全自动超声波清洗方法及系统

本发明公开了一种半导体器件全自动超声波清洗方法及系统，涉及超声波清洗技术领域，包括，通过RFID芯片读取半导体晶圆的身份信息，采集半导体晶圆清洗参数集合；根据半导体晶圆清洗参数集合，采用去离子水对半导体晶圆进行初步冲洗，输出初步半导体晶圆；通过关键反馈信号，动态调节清洗液中微米级气泡的生成速率和浓度，对多频超声波清洗晶圆表面的微观污染物进一步清除，输出清洗效果数据集；将清洗质量综合评分与清洗质量阈值进行对比，评估半导体晶圆清洗质量，获得清洗质量报告。本发明提高了清洗效果和表面洁净度，有效提升了清洗质量的稳定性与效率，确保了半导体晶圆的高质量清洗，减少了误差并满足高洁净度要求。