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用于耗散电荷之腔室盖

발명알 수 없음
20청구항 · 3 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

A·加西亚; V·菲鲁兹多尔

출원일

Feb 27, 2025

공개일

Oct 16, 2026

IPC 분류

H01J 37/32 (2006.01)H01J 37/305 (2006.01)

本文公开腔室盖、具有所述腔室盖的处理腔室、及减少颗粒产生的方法。所述腔室盖包括主体,所述主体包括面向等离子体侧;及保护表面,所述保护表面设置在所述面向等离子体侧上且包括导电层。所述导电层具有不大于约1 um的厚度。所述保护表面进一步包括化学抵抗层,所述化学抵抗层设置在所述导电层上且具有不大于约5 um的厚度。所述反应离子蚀刻腔室包括与所述腔室盖耦接的多个侧壁,及连接至接地的导电衬垫。所述腔室盖的所述导电层与所述导电衬垫耦接。所述方法包括通过所述导电层和所述导电衬垫释放所述腔室盖上累积的电子。