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一种非球面多参干涉测量离子束加工一体化方法
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§ Ⅰ
개요
발명자
郝群; 石峰; 张承龙; 彭星; 胡摇
출원일
Sep 17, 2026
공개일
Oct 20, 2026
IPC 분류
G01B 11/24 (2006.01)G01B 11/255 (2006.01)G01B 11/26 (2006.01)G06N 3/08 (2023.01)G06F 18/20 (2023.01)G06F 18/214 (2023.01)G06F 18/25 (2023.01)
公开一种非球面多参干涉测量离子束加工一体化方法，在统一装夹状态和坐标基准下完成非球面光学元件加工前后的在位干涉测量，能够减少工位转换、重复装夹和坐标重复转换对面形测量结果与离子束加工位置对应关系的影响。方法包括：（1）建立统一坐标基准；（2）加工前在位干涉测量和多参数组织；（3）构建真实加工事件数据；（4）搭建及训练SPC‑DeltaNet；（5）预测局部加工结果和重建完整口径面形；（6）离子束加工及加工后在位复测。