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一种基于可逆饱和高非线性荧光过程的光限幅方法
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§ Ⅰ
개요
IPC 분류
G02F 1/35 (2006.01)
本发明涉及本发明涉及纳米光子学、非线性光学与光限幅技术的交叉技术领域,具体涉及一种基于可逆饱和高非线性荧光过程的光限幅方法;本发明通过构建内部集成多个不同激发阈值光子雪崩引擎的可逆饱和荧光纳米颗粒,并将其分散于光学透明固态基质中制成光限幅元件;利用包含分束镜、光电探测器和中央控制器的多级智能光限幅光路系统,逐步递增入射激光功率并同步采集入射光强、透射光强及荧光光谱特征,使输出光强在整个高功率区间内被箝制在多个预设安全水平上,获得多级阶梯式限幅曲线。本发明实现了入射光强的多级自适应限幅,具有多级限幅、智能自适应、可逆饱和与高循环稳定性等优点,可广泛应用于高功率激光防护、智能光学窗等领域。