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晶体管及其制造方法

发明专利未知
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17权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

洪启瀚

申请日

May 27, 2025

公开日

Oct 20, 2026

IPC 分类

H10D 10/01 (2025.01)H10D 10/00 (2025.01)H10D 62/10 (2025.01)

本发明提供一种晶体管及其制造方法,该晶体管包含衬底、外延层、氧化复合层和金属层。其中,外延层设置在衬底上,氧化复合层设置在外延层上,并且依序具有氧化底层和氧化上层。氧化底层的侧缘具有三角结构,氧化上层的侧缘具有倾斜结构,且倾斜结构与水平面间的夹角小于90°,使得金属层完全覆盖氧化复合层而无空隙。