一种提高刻蚀产能的方法及刻蚀系统

本发明提供了一种提高刻蚀产能的方法及刻蚀系统，属于半导体生产技术领域，提高刻蚀产能的方法包括：根据基板的总刻蚀时长T，设定所述基板的刻蚀次数k和所述基板的单次刻蚀时长，其中，T=；先将多个所述基板送入一冷却腔室，再择一送入刻蚀腔室进行刻蚀，在刻蚀时长达到所述单次刻蚀时长后，将所述基板送回所述冷却腔室，并将另一所述基板送入所述刻蚀腔室进行刻蚀，同时对所述冷却腔室进行冷却，依此步骤直至全部的所述基板均达到所述总刻蚀时长T。本申请既避免了在刻蚀腔室内增设冷却装置导致的成本增加，又能够很好地控制基板的温度，可以提高基板的生产效率。