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案件記録
基板处理装置以及基板处理方法
発明不明
9請求項 · 2 独立
§ Ⅰ
案件概要
発明者
吉田幸史; 植村知浩; 南翔耀; 上田悠介; 岩尾通矩
出願日
Nov 21, 2024
公開日
Oct 20, 2026
IPC分類
H10P 70/00 (2026.01)H10P 72/00 (2026.01)B01D 53/22 (2006.01)B01D 71/02 (2006.01)
本申请说明书所公开的技术为一种现有技术未解决的IPA蒸气与水蒸气的混合蒸气的分离技术。本申请说明书所公开的技术的基板处理装置具有:处理腔室,收纳贮存有纯水的处理槽,使基板浸渍在纯水中来处理基板;有机溶剂蒸气供给部,将有机溶剂的蒸气供给至处理腔室内;升降机,在从处理槽取出浸渍在纯水中的基板时,一边使有机溶剂的蒸气与基板接触一边提起基板;吸气部,从处理腔室内吸入在处理腔室内所生成的混合蒸气;以及分离膜,将被吸气部吸入的混合蒸气中的纯水的蒸气与有机溶剂的蒸气分离;混合蒸气包含纯水的蒸气以及有机溶剂的蒸气。
外部リソース