一种极高利用率磁控溅射靶材的制造方法

本发明涉及一种极高利用率磁控溅射靶材的制造方法，属于磁控溅射镀膜用靶材的制备技术领域，利用扫描仪对残靶进行扫描建模，得到需3D打印成形的填补模型，将残靶酸洗后利用3D打印工艺逐层填补残靶，打印完成后进行退火处理，表面抛光后得到新制靶材，新制靶材镀膜后的残靶可重复利用，可实现靶材利用率达到90%以上；本发明创新性地利用3D打印工艺填补残靶以新制靶材，兼顾平面靶与旋转靶的制造，并在制造流程中建立回收机制，制造流程简单可靠，既突破现有技术壁垒，又极大提高靶材在磁控溅射工艺中的利用率；本发明不仅能够极大提升原材料的利用率，而且避免靶材的复杂机械加工，适用于大批量生产，降低生产成本。