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案件記録

一种硅碳负极回转炉CVD包覆设备

発明不明
10請求項 · 1 独立
§ Ⅰ

案件概要

発明者

代春龙; 魏明勇

出願日

Sep 21, 2026

公開日

Oct 27, 2026

IPC分類

C23C 16/26 (2006.01)C23C 16/455 (2006.01)C23C 16/458 (2006.01)C23C 16/46 (2006.01)C23C 16/52 (2006.01)F27B 7/14 (2006.01)F27D 7/06 (2006.01)

本发明涉及锂电池硅碳负极材料制备设备技术领域,具体提供了一种硅碳负极回转炉CVD包覆设备,包括设备机架、旋转炉管、保温炉膛、动力旋转机构、气体投加系统、加热系统和冷却系统,旋转炉管通过动力旋转机构与设备机架转动连接,旋转炉管整体倾斜设置且旋转炉管的进料端高于出料端,保温炉膛包覆安装于旋转炉管外,保温炉膛与设备机架固定连接,气体投加系统用于向旋转炉管内输送多种气体,加热系统用于加热旋转炉管,冷却系统用于对旋转炉管进行降温,在进气端各类工艺气体先完成均匀混合再通过导气管送入炉内,配合弧形扬料板组成的翻料机构,实现混合气体与粉体原料全方位充分接触,有效提升工艺气体利用率与整体生产效率。

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