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기록

沉积参数控制方法、装置及设备

발명알 수 없음
10청구항 · 3 독립항
§ Ⅰ

개요

발명자

沈一春; 袁榕基; 钱宜刚; 薛钦

출원일

Sep 2, 2026

공개일

Oct 27, 2026

IPC 분류

C23C 16/52 (2006.01)

本申请实施例提供一种沉积参数控制方法、装置及设备。该方法包括:采集沉积过程中反应室腔体内的当前腔体温度和当前腔体压力;根据当前腔体温度和当前腔体压力,确定扰动参数;根据扰动参数,确定补偿调整量集合,补偿调整量集合用于指示对受扰动参数影响的至少一个目标工艺参数的补偿量;基于补偿调整量集合,生成前馈补偿信号,以使目标工艺参数在扰动参数产生时同步调整,以维持工艺状态。该方法用以达到提高化学气相沉积过程中的工艺稳定性的效果。

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