一种大尺寸多片垂直式外延设备的进气系统

本发明涉及半导体外延设备技术领域，且公开了一种大尺寸多片垂直式外延设备的进气系统，包括进气腔体，具有进气端和出气端，还包括扩散布气机构，设置于所述进气腔体内，与进气端连通，用于将进入的气体沿周向均匀扩散分配；气体匀流机构，设置于所述扩散布气机构的下游，用于对扩散后的气体进行整流，使其流速分布均匀化后进入反应腔体；其中，所述扩散布气机构包括沿进气腔体周向分布的多个布气组件。本发明通过设置多个独立的布气组件，分别连接不同的进气接口，可将工艺气体按区域划分为多个独立可控的供气通道，主路气体和掺杂气体可根据工艺需求，在不同区域独立调节流量和组分比例，有效补偿大尺寸腔体固有的气体分布不均问题。