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用于沉积含金属层的方法和系统
发明专利有效
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20权利要求 · 16 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
T·哈坦帕; A·维赫瓦拉; M·瑞塔拉
IPC 分类
C23C 16/455 (2006.01)
本公开涉及用于通过选择性沉积过程在衬底上沉积含金属材料的方法和设备。该方法包括在反应室中提供衬底,以气相将金属醇盐前体提供到反应室中;以及以气相将第二前体提供到反应室中以在衬底上形成含金属材料。根据本公开的第二前体包括硼烷化合物,并且衬底包括第一表面和第二表面。
发明人
T·哈坦帕; A·维赫瓦拉; M·瑞塔拉
IPC 分类
本公开涉及用于通过选择性沉积过程在衬底上沉积含金属材料的方法和设备。该方法包括在反应室中提供衬底,以气相将金属醇盐前体提供到反应室中;以及以气相将第二前体提供到反应室中以在衬底上形成含金属材料。根据本公开的第二前体包括硼烷化合物,并且衬底包括第一表面和第二表面。