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氢分离过滤器及氢分离过滤器的制造方法

发明专利未知
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5权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

高田智司

申请日

Dec 30, 2025

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

B01D 53/22 (2006.01)B01D 71/02 (2006.01)B01D 69/02 (2006.01)B01D 67/00 (2006.01)C01B 3/505 (2026.01)

本发明的课题在于提供一种具有高氢透过速度的氢分离过滤器及其制造方法。氢分离过滤器包括:多孔基材;及钯层,其设置于所述多孔基材上。根据与所述钯层的厚度方向平行的晶面的面间隔求出的钯的晶格常数a满足下述式(1),式中,a表示完全松弛的钯的晶格常数即0.38898nm。