锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法

本发明涉及锍盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻，溶剂溶解性优良，为高感度、高对比度，LWR、CDU、EL、DOF等光刻性能优良的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的锍盐型单体、含有来自该锍盐型单体的重复单元的聚合物、含有该聚合物的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明的解决手段是下式(A)表示的锍盐型单体。式中，Z是具有聚合性基团的芳香族磺酸阴离子。