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电化学氧还原催化剂

发明专利未知
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5权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

大久保庆一; 平林一宽

申请日

Dec 18, 2025

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

H01M 4/86 (2006.01)H01M 4/90 (2006.01)

本发明的目的在于提供显示出高催化活性和高催化活性提高效果的电化学氧还原催化剂。本发明的一方面涉及一种电化学氧还原催化剂,其包含负载在介孔碳上的具有氧还原活性的催化剂金属和修饰所述催化剂金属的修饰层,其中所述介孔碳的一次粒子的众数粒径为700nm以下,或者所述介孔碳的一次粒子的中值粒径为750nm以下,并且所述介孔碳满足规定的a)BET比表面积、b)众数细孔径、和c)2.0nm至30nm范围内的细孔的总细孔容量中的至少一个。

§ Ⅵ

专利附图

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