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等离子体设备
发明专利未知
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§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
丁伟; 管长乐; 范强
申请日
Jul 28, 2026
公开日
Oct 16, 2026
IPC 分类
H05H 1/46 (2006.01)H10P 50/20 (2026.01)H10P 70/00 (2026.01)
本公开实施例提供一种等离子体设备,涉及半导体设备技术领域。等离子体设备,包括:介质管,沿其轴向具有相对的第一端和第二端;进气盖板,位于介质管的第一端;内衬管,位于介质管的内侧,且与介质管之间具有第一间隙;内衬管包括沿介质管的轴向设置的多个环体;进气盖板设置有第一固定部;第一固定部与靠近第一端的环体配合,以将多个环体压紧;环形固定件,位于介质管的第二端;环形固定件具有固定件主体部及限位部,固定件主体部用于遮挡介质管与内衬管之间的第一间隙;限位部与固定件主体部连接,限位部与靠近第二端的环体配合;处理腔室,介质管的第二端插设至处理腔室的开口中,且处理腔室与环形固定件可拆卸连接。