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一种后期修饰TADF分子、前体分子及其合成方法

发明专利未知
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§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

姜超; 武则禹

申请日

Jul 23, 2026

公开日

Oct 20, 2026

IPC 分类

C07F 5/02 (2006.01)C09K 11/06 (2006.01)

本发明属于有机光电材料与有机合成技术领域,涉及一种后期修饰的热活化延迟荧光分子、前体分子及其合成方法。针对现有TADF材料后修饰方法有限、结构调控灵活性不足的问题,本发明提供一种后期修饰的TADF分子及其前体分子,并公开其制备方法。以TADF分子及前体分子原料,在三氟甲磺酸铁催化下与α‑甲基苯乙烯反应,经分离提纯得到目标产物。该方法反应条件明确、操作简便,有利于实现TADF材料的高效后期结构修饰,可用于有机电致发光材料的设计与制备。

§ Ⅵ

专利附图

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